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培訓(xùn)目標(biāo)
為了檢定某總體的特性利用樣本數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)
對某總體設(shè)定的假設(shè)檢驗(yàn)的判定步驟
多個(gè)總體設(shè)定的假設(shè)檢驗(yàn)的判定步驟
使用Minitab來進(jìn)行比較分析，得出結(jié)果變得方便容易

課程大綱
一概述
1．為什么要學(xué)習(xí)比較分析
2．什么是比較分析
3．比較分析的流程圖
二假設(shè)檢驗(yàn)
1．假設(shè)檢驗(yàn)問題
2．假設(shè)檢驗(yàn)的基本步驟
3．P-值另一個(gè)判斷準(zhǔn)則

三單個(gè)正態(tài)均值μ的u檢驗(yàn)(s已知)
1．單個(gè)正態(tài)均值μ的假設(shè)檢驗(yàn)(s已知)
2．單個(gè)正態(tài)均值μ的假設(shè)檢驗(yàn)(s已知)實(shí)例分析
3．課堂練習(xí)一——三極管的放大倍數(shù)是否降低檢驗(yàn)

四單個(gè)正態(tài)均值μ的t檢驗(yàn)(s未知)
1．單個(gè)正態(tài)均值μ的假設(shè)檢驗(yàn)(s未知)
2．單個(gè)正態(tài)均值μ的假設(shè)檢驗(yàn)(s未知)實(shí)例分析
3．課堂練習(xí)二——硅片用化學(xué)品的儲存期限檢驗(yàn)
4．應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評判標(biāo)準(zhǔn)

五單個(gè)正態(tài)方差s2的c2檢驗(yàn)
1．單個(gè)正態(tài)方差s2的假設(shè)檢驗(yàn)
2．單個(gè)正態(tài)方差s2的假設(shè)檢驗(yàn)實(shí)例分析
3．課堂練習(xí)三——等離子體刻蝕器的合格性檢驗(yàn)

六兩個(gè)正態(tài)總體均值μ的u檢驗(yàn)(s已知)
原假設(shè)、備擇假設(shè)、檢驗(yàn)統(tǒng)計(jì)量、拒絕域

七兩個(gè)正態(tài)總體均值μ的t檢驗(yàn)(s1=s2，s未知)
1．原假設(shè)、備擇假設(shè)、檢驗(yàn)統(tǒng)計(jì)量、拒絕域
2．兩個(gè)正態(tài)總體均值μ的檢驗(yàn)(s1=s2，s未知)實(shí)例分析
3．課堂練習(xí)四——兩臺光刻機(jī)工藝的線寬均值有無顯著差異
4．應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評判標(biāo)準(zhǔn)

八兩個(gè)正態(tài)總體均值μ的t檢驗(yàn)(s11s2，s未知)
原假設(shè)、備擇假設(shè)、檢驗(yàn)統(tǒng)計(jì)量、拒絕域

九兩個(gè)正態(tài)方差比較的F檢驗(yàn)
1．兩個(gè)正態(tài)方差s2的假設(shè)檢驗(yàn)
2．兩個(gè)正態(tài)方差s2的假設(shè)檢驗(yàn)實(shí)例分析
3．課堂練習(xí)五——Fab3LIS05光刻機(jī)上線檢驗(yàn)
4．應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評判標(biāo)準(zhǔn)

十成對數(shù)據(jù)比較
1．成對數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)
2．成對數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)實(shí)例分析
3．成對數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)二種方法的比較與分析
4．課堂練習(xí)六——設(shè)備做保養(yǎng)前后有無顯著改善檢驗(yàn)
5．應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評判標(biāo)準(zhǔn)

十一多組數(shù)據(jù)比較
1．多組數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)實(shí)例分析
2．課堂練習(xí)七——多臺設(shè)備的工藝比較有無顯著異常檢驗(yàn)
3．應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評判標(biāo)準(zhǔn)

十二練習(xí)
1．確定C2F4流率對刻蝕硅片的均勻性是否有影響檢驗(yàn)
2．兩臺用來充裝的機(jī)器凈容量均值檢驗(yàn)
3．等離子體刻蝕器的合格性試驗(yàn)
4．制鞋材料壽命長短的檢驗(yàn)實(shí)驗(yàn)

十三微電子有關(guān)比較*成果閱讀材料
1．樣本與置信區(qū)間
2．獨(dú)立性問題探討
3．Box-CoxTransformations問題
4．非參數(shù)統(tǒng)計(jì)方法